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浏览/检索结果: 共16条，第1-10条 帮助 限定条件 专题：上海光学精密机械研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 极紫外投影光刻掩模衍射简化模型的研究 期刊论文 光学学报, 2011, 卷号: 31, 期号: 4 曹宇婷; 王向朝; 邱自成; 彭　勃 收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2012/04/26 Trefoil aberration measurement of lithographic projection optics based on linewidth asymmetry of the aerial image 期刊论文 optik, 2010, 卷号: 121, 期号: 19, 页码: 1739-1742 Yuan QY(袁琼雁); Wang XZ(王向朝); Qiu ZC(邱自成) 收藏  |  浏览/下载：36/0  |  提交时间：2011/03/31 Measurement technique for characterizing odd aberration of lithographic projection optics based on dipole illumination 期刊论文 optics communications, 2010, 卷号: 283, 期号: 11, 页码: 2309-2317 Peng B(彭勃); Wang XZ(王向朝); Qiu ZC(邱自成); Yuan QY(袁琼雁) 收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2011/03/31 Polarization distribution control of anisotropic electromagnetic Gaussian–Schell model beams on free propagation by exploiting correlation properties at the source plane 期刊论文 J. Opt. Soc. Am. A, 2010, 卷号: 27, 期号: 11, 页码: 2496-2505 Zhang R(张荣); Wang XZ(王向朝); Cheng X(程欣); Qiu ZC(邱自成) 收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2011/03/31 Even aberration measurement of lithographic projection optics based on intensity difference of adjacent peaks in an alternating phase shifting mask image 期刊论文 applied optics, 2010, 卷号: 49, 期号: 15, 页码: 2753-2760 Peng B(彭勃); Wang XZ(王向朝); Qiu ZC(邱自成); Cao YT(曹宇婷); Duan LF(段立峰) 收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2011/03/31 Aberration induced intensity imbalance of alternating phase shifting mask in lithographic imaging 期刊论文 optics letters, 2010, 卷号: 35, 期号: 9, 页码: 1404-1406 Peng B(彭勃); Wang XZ(王向朝); Qiu ZC(邱自成); Yuan QY(袁琼雁); Cao YT(曹宇婷) 收藏  |  浏览/下载：26/0  |  提交时间：2011/03/31 Translational-symmetry alternating phase shifting mask grating mark used in a linear measurement model of lithographic projection lens aberrations 期刊论文 applied optics, 2009, 卷号: 48, 期号: 19, 页码: 3654-3663 Zicheng Qiu; Xiangzhao Wang; Qunyu Bi; Qiongyan Yuan; Bo Peng; and Lifeng Duan 收藏  |  浏览/下载：955/203  |  提交时间：2010/04/19 Coma measurement by use of an alternating phase-shifting mask mark with a specific phase width 期刊论文 applied optics, 2009, 卷号: 48, 期号: 2, 页码: 261-269 Zicheng Qiu; Xiangzhao Wang; Qiongyan Yuan; and Fan Wang 收藏  |  浏览/下载：927/185  |  提交时间：2010/04/19 Coma measurement by use of an alternating phase-shifting mask mark with a specific phase width 期刊论文 applied optics, 2009, 卷号: 48, 期号: 19 Zicheng Qiu; Xiangzhao Wang; Qiongyan Yuan; and Fan Wang 收藏  |  浏览/下载：756/120  |  提交时间：2010/04/26 Impact of polarized illumination on high NA imaging in ArF immersion lithography at 45 nm node 期刊论文 optik, 2009, 卷号: 120, 期号: 7, 页码: 325, 329 Yuan Qiongyan; 王向朝; Qiu Zicheng 收藏  |  浏览/下载：1257/225  |  提交时间：2009/09/18 Immersion lithography  Polarized illumination  Normalized image log slope  Exposure defocus window