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浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 限定条件 专题：贵州大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 电流对多级弧放电装置中的氩等离子体特性影响的流体模拟 期刊论文 2012, 卷号: 32, 期号: 7, 页码: 630-635 作者:  张浚源;  王鹏;  陈峰;  孙伟中;  吕晓丹 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2020/01/02 流体  多级弧放电  氩等离子体特性  电子密度  电子温度   电流对多级弧放电装置中的氩等离子体 期刊论文 2012, 期号: 7, 页码: 630-635 作者:  张浚源;  王鹏;  陈峰;  孙伟中;  吕晓丹 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2020/01/02 流体  多级弧放电  氩等离子体特性  电子密度  电子温度   Ar射频放电特性随时间演化的PIC／MCC模拟 期刊论文 2012, 卷号: 35, 期号: 1, 页码: 49-54 作者:  张浚源;  陈峰;  孙伟中;  吕晓丹;  贺平逆 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/31 等离子体  鞘层  等离子体粒子模拟方法(PIC/MCC)  容性耦合等离子体源(CCP)   F原子与Si表面相互作用的动力学研究 期刊论文 2012, 卷号: 32, 期号: 1, 页码: 53-58 作者:  赵成利;  邓朝勇;  孙伟中;  吕晓丹;  陈峰 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/28 分子动力学  沉积  刻蚀  Si-F反应层   分子动力学模拟入射角度对F离子与β-SiC表面相互作用的影响 期刊论文 2011, 卷号: 34, 期号: 1, 页码: 51-55 作者:  赵成利;  孙伟中;  吕晓丹;  陈峰;  贺平逆 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2020/01/02 分子动力学  入射角度  刻蚀  Si-C-F反应层