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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 专题：过程工程研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Primary Nucleation-Dominated Chemical Vapor Deposition Growth for Uniform Graphene Monolayers on Dielectric Substrate 期刊论文 JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, 2019, 卷号: 141, 期号: 28, 页码: 11004-11008 作者:  Wang, Huaping;  Xue, Xudong;  Jiang, Qianqing;  Wang, Yanlei;  Geng, Dechao 收藏  |  浏览/下载：54/0  |  提交时间：2019/10/18