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科研机构
微电子研究所 [14]
内容类型
期刊论文 [10]
会议论文 [3]
专著 [1]
发表日期
2018 [2]
2017 [5]
2016 [2]
2015 [1]
2014 [4]
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专题:微电子研究所
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Novel GAA Si Nanowire p-MOSFETs With Excellent Short-Channel Effect Immunity via an Advanced Forming Process
期刊论文
IEEE Electron Device Letters, 2018
作者:
Zhang QZ(张青竹)
;
Yin HX(殷华湘)
;
Meng LK(孟令款)
;
Yao JX(姚佳欣)
;
Li JJ(李俊杰)
收藏
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浏览/下载:27/0
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提交时间:2019/05/05
Complementary Metal Oxide Semiconductor
专著
:IntechOpen, 2018
作者:
Yin HX(殷华湘)
;
Wang GL(王桂磊)
;
Yao JX(姚佳欣)
;
Henry Homayoun Radamson
收藏
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浏览/下载:23/0
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提交时间:2019/05/23
Study of sigma-shaped source/drain recesses for embedded-SiGe pMOSFETs
期刊论文
Microelectronic Engineering, 2017
作者:
Zhu HL(朱慧珑)
;
Xu QX(徐秋霞)
;
Li JF(李俊峰)
;
Zhao C(赵超)
;
Henry Homayoun Radamson
收藏
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浏览/下载:47/0
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提交时间:2018/07/09
Improved Operation Characteristics for Nonvolatile Charge-Trapping Memory Capacitors with High-Dielectrics and SiGe Epitaxial Substrates
期刊论文
CHINESE PHYSICS LETTERS, 2017
作者:
Zhang QZ(张青竹)
;
Wu ZH(吴振华)
;
Yin HX(殷华湘)
;
Wang GL(王桂磊)
;
Hou CZ(侯朝昭)
收藏
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2018/07/05
pMOSFETs Featuring ALD W Filling Metal Using SiH4 and B2H6 Precursors in 22 nm Node CMOS Technology
期刊论文
Nanoscale Research Letters, 2017
作者:
Zhao C(赵超)
;
Wang GL(王桂磊)
;
Luo J(罗军)
;
Liu JB(刘金彪)
;
Yang T(杨涛)
收藏
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2018/07/05
Integration of Highly Strained SiGe in Source and Drain with HK and MG for 22 nm Bulk PMOS Transistors
期刊论文
Nanoscale Research Letters, 2017
作者:
Wang GL(王桂磊)
;
Ye TC(叶甜春)
;
Henry Homayoun Radamson
;
Zhao C(赵超)
;
Zhu HL(朱慧珑)
收藏
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2018/07/05
Optimization of Selective Growth of SiGe for Source/Drain in 14nm and Beyond Nodes FinFETs
期刊论文
International Journal of High Speed Electronics and Systems, 2017
作者:
Henry Homayoun Radamson
;
Zhu HL(朱慧珑)
;
Yin HX(殷华湘)
;
Qin ZL(秦长亮)
;
Luo J(罗军)
收藏
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2018/07/05
FOI FinFET with Ultra-low Parasitic Resistance Enabled by Fully Metallic Source and Drain Formation on Isolated Bulk-Fin
会议论文
作者:
Wu ZH(吴振华)
;
Luo J(罗军)
;
Meng LK(孟令款)
;
Zhang QZ(张青竹)
;
Li YD(李昱东)
收藏
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浏览/下载:32/0
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提交时间:2017/05/19
Integration of Selective Epitaxial Growth of SiGe/Ge layers in 14nm Node FinFETs
期刊论文
ECS Transactions, 2016
作者:
Yin HX(殷华湘)
;
Wang GL(王桂磊)
;
Luo J(罗军)
;
Qin ZL(秦长亮)
;
Cui HS(崔虎山)
收藏
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浏览/下载:16/0
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提交时间:2017/05/09
Impact of pattern dependency of SiGe layers grown selectively in source/drain on the performance of 22nm node pMOSFETs
期刊论文
Solid-State Electronics, 2015
作者:
Li JF(李俊峰)
;
Wang GL(王桂磊)
;
Xu YF(徐烨峰)
;
Luo J(罗军)
;
Guo YL(郭奕栾)
收藏
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2016/05/31
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