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科研机构
大连理工大学 [6]
内容类型
期刊论文 [6]
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2010 [1]
2007 [1]
2006 [2]
2004 [1]
1993 [1]
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Influence of N-2 flow rate on the mechanical properties of SiNx films deposited by microwave electron cyclotron resonance magnetron sputtering
期刊论文
THIN SOLID FILMS, 2010, 卷号: 518, 页码: 2077-2081
作者:
Ding, Wanyu
;
Xu, Jun
;
Lu, Wenqi
;
Deng, Xinlu
;
Dong, Chuang
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/24
Silicon nitride
Plasma processing and deposition
Fourier-transform infrared spectroscopy
Mechanical properties
Deposition of silicon carbon nitride thin films by microwave ECR plasma enhanced unbalance magnetron sputtering
期刊论文
5th Asian/European International Conference on Plasma Surface Engineering, 2007, 卷号: 201, 页码: 5298-5301
作者:
收藏
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2019/12/27
silicon carbon nitride
ECR
magnetron sputtering
Structure and tribology property of carbon nitride films deposited by MW-ECR plasma enhanced unbalanced magnetron sputtering
期刊论文
PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY, 2006, 卷号: 8, 页码: 425-428
作者:
收藏
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2019/12/27
carbon nitride
tribological property
unbalanced magnetron sputtering
Development of NiCr/NiSi thin-film thermocouple sensor for workpiece temperature measurement in chemical explosive material machining
期刊论文
JOURNAL OF MANUFACTURING SCIENCE AND ENGINEERING-TRANSACTIONS OF THE ASME, 2006, 卷号: 128, 页码: 175-179
作者:
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/27
Chemical Structure of Carbon Nitride Films Prepared by MW-ECR Plasma Enhanced Magnetron Sputtering
期刊论文
材料热处理学报, 2004, 卷号: 25, 页码: 818-820
作者:
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2020/01/02
Carbon nitride
Deposition
Electron cyclotron resonance
Magnetron sputtering
Microstructure
Microwaves
Plasmas, Chemical structure
Deposition rate
Plasma enhanced magnetron sputtering
Sputter cleaned surface, Amorphous films
Plasma source ion implantation (PSII) and PSII enhanced film deposition
期刊论文
Chinese Physics Letters, 1993, 卷号: 10, 页码: 355
作者:
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提交时间:2020/01/06
离子注入
等离子体源
薄膜
淀积
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