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浏览/检索结果: 共9条，第1-9条 帮助 限定条件 内容类型：其他     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Study of topological relations between vague regions in discrete space based on rough sets 其他 2005-01-01 Gao, ZJ; Liu, Y; Zhou, YY; Qin, S 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2015/11/13 vague regions  rough sets  rough model  discrete space  RCC-D-5  raster region  topolgical relations   Nano-machined transmission gratings for atom interferometer gyroscope applications 其他 2005-01-01 Xia, L; Wu, XG; Xu, J; Feng, YY; Yan, GZ; Hao, YL; Zhou, ZY 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2015/11/13 Post-CMOS process for high-aspect-ratio monolithically integrated single crystal silicon microstructures 其他 2005-01-01 Zhu, Y; Yan, GZ; Fan, J; Liu, XS; Zhou, J; Wang, YY 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2015/11/13 post-CMOS process  isolation trench  bulk integration   Isomorphisms of character rings 其他 2004-01-01 Zhou, YY; Sun, DY 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2015/11/16 character  character ring  perfect isometry   3D simulation of profile evolution in silicon DRIE 其他 2004-01-01 Zhou, RC; Zhang, HX; Hao, YL; Wang, YY 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2015/11/13 DEPOSITION   Investigation of fabricating ultra deep and high aspect ratio electrical isolation trench without void 其他 2004-01-01 Zhu, Y; Fan, J; Wang, CW; Zhou, J; Liu, XS; Yan, GZ; Wang, YY 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2015/11/13 DRIE  high aspect ratio  isolation trench  MEMS  monolithic integration   Fabrication of ultra deep high aspect ratio electrical isolation trenches using DRIE and dielectric refill 其他 2004-01-01 Zhu, Y; Yang, GZ; Wang, CW; Yang, ZC; Fan, J; Zhou, J; Wang, YY 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2015/11/13 deep reactive ion etching (DRIE)  electrical isolation trenches  bulk microstructures  monolithic integration  MEMS   A novel asymmetric graded low doped drain (AGLDD) vertical channel nMOSFET with sidewall masked (SWAM) LOCOS isolation 其他 2004-01-01 Zhou, FL; Huang, R; Zhang, X; Wang, YY 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2015/11/13 vertical channel MOSFET  LDD  GLDD  AGLDD  LOCOS  SWAM  HOT-CARRIER RELIABILITY  TECHNOLOGY  DEVICES   Simulation of profile evolution in etching-polymerization alternation in DRIE of silicon with SF6/C4F8 其他 2003-01-01 Zhou, RC; Zhang, HX; Hao, YL; Zhang, DC; Wang, YY 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2015/11/13