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Effect of ion bombardment time on the profile of atomic layer etching 会议论文
2nd Asia-Pacific Conference on Plasma Physics
作者:  Dai ZL(戴忠玲);  Dong W(董婉);  Song YH(宋远红);  Wang YN(王友年)
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ALE of SiO2 by alternating CF4 plasma with energetic Ar+ plasma beams 会议论文
7th international conference on microelectronics and plasma technology
作者:  Dong W(董婉);  Dai ZL(戴忠玲);  Song YH(宋远红);  Wang YN(王友年)
收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2019/12/02
Effect of plasma uniformity on etching profiles 会议论文
The 71st Annual Gaseous Electronics Conference
作者:  Dong W(董婉);  Wang XF(王喜凤);  Song YH(宋远红);  Dai ZL(戴忠玲);  Wang YN(王友年)
收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2019/12/02
Numerical study of atomic layer precision control for SiO2 etching 会议论文
the 70th Annual Gaseous Electronics Conference, November 6-10, 2017, in Pittsburgh, PA, U.S.A.
作者:  Dai ZL(戴忠玲);  Wang YN(王友年)
收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/02
Accuracy control of SiO2 etching in inductively coupled CF4/Ar plasmas 会议论文
1st Asia-Pacific Conference on Plasma Physics, 18-23, 09.2017
作者:  Dai ZL(戴忠玲);  Wang YN(王友年)
收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/02
Simulation of atomic layer etching of Si in inductively coupled argon/chlorine plasmas with tailored bias voltage waveforms 会议论文
The 6th International Conference on Microelectronics and Plasma Technology (ICMAP 2016)
作者:  Dai ZL(戴忠玲);  Wang YN(王友年)
收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2019/12/09
Atomic layer etching of SiO2 under Ar/C4F8 plasmas with pulsed bias 会议论文
The joint 68th Gaseous Electronics Conference, the 9th International Conference on Reactive Plasmas, and the 33rd Symposium on Plasma Processing (GEC-68/ICRP-9/SPP-33)
作者:  Dai ZL(戴忠玲);  Wang YN(王友年)
收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/09
Atomic Layer Etching of Silicon and Silicon Dioxide Under Pulsed RF Substrate Bias 会议论文
ICMAP 2014: International Conference of Microelectronics and Plasma Technology
作者:  Dai ZL(戴忠玲);  Wang YN(王友年)
收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/11
Simulation of ion behavior in a photoresist trench during metal etching driven by a radio-frequency source 会议论文
The 3rd International Conference of Microelectronics and Plasma Technology
作者:  Dai ZL(戴忠玲);  Wang YN(王友年)
收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/18
Study on Feature Profile Evolution for Chlorine Etching of Silicon in a RF Biased Sheath 会议论文
17th international conference on surface modification of materials by ion beams (SMMIB)
作者:  Dai ZL(戴忠玲);  Wang YN(王友年)
收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/12/18

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