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科研机构
半导体研究所 [2]
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期刊论文 [2]
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2020 [2]
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Defect appearance on 4H-SiC homoepitaxial layers via molten KOH etching
期刊论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 2020, 卷号: 531, 页码: 125359
作者:
X.F. Liu
;
G.G. Yan
;
L. Sang
;
Y.X. Niu
;
Y.W. He
;
Z.W. Shen
;
Z.X. Wen
;
J. Chen
;
W.S. Zhao
;
L. Wang
;
M. Guan
;
F. Zhang
;
G.S. Sun
;
Y.P. Zeng
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提交时间:2021/11/26
Effect of C/Si ratio on growth of 4H-SiC epitaxial layers on on-axis and 4° off-axis substrates
期刊论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 2020, 卷号: 531, 页码: 125362
作者:
G.G. Yan
;
Y.W. He
;
Z.W. Shen
;
Y.X. Cui
;
J.T. Li
;
W.S. Zhao
;
L. Wang
;
X.F. Liu
;
F. Zhang
;
G.S. Sun
;
Y.P. Zeng
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提交时间:2021/11/26
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