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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 发表日期：2015    专题：微电子研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Enlage the process window of patterns in 22nm node by using mask topography aware OPC and SMO 期刊论文 CSTIC, 2015 作者:  Song ZY(宋之洋);  Wei YY(韦亚一);  Su YJ(粟雅娟);  Guo MR(郭沫然);  Dong LS(董立松) 收藏  |  浏览/下载：9/0  |  提交时间：2016/05/31 Thickness optimization for lithography process on different silicon substrate 期刊论文 Proc. of SPIE, 2015 作者:  Su XJ(苏晓菁);  Su YJ(粟雅娟);  Liu YS(刘艳松);  Wei YY(韦亚一) 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2016/05/31 Focus Shift Impacted by Mask 3D And Comparison between Att. PSM and OMOG 期刊论文 Proc. of SPIE, 2015 作者:  Dong LS(董立松);  Liu YS(刘艳松);  Su XJ(苏晓菁);  Song ZY(宋之洋);  Wei YY(韦亚一) 收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2016/05/31