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Ar气氛下退火处理对6H-SiC晶片表面结构的影响 期刊论文
人工晶体学报, 2013, 卷号: 42, 期号: 1, 页码: 865
姜涛; 严成锋; 陈建军; 刘熙; 杨建华; 施尔畏
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