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科研机构
金属研究所 [6]
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期刊论文 [6]
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2021 [1]
2005 [1]
2004 [1]
1999 [2]
1997 [1]
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Improvement in the universality of high-performance CVD diamond coatings on different WC-Co substrates by introducing multilayered diamond/beta-SiC composite
期刊论文
DIAMOND AND RELATED MATERIALS, 2021, 卷号: 116, 页码: 12
作者:
Yuan, Ziyao
;
Liu, Lusheng
;
Song, Haozhe
;
Lu, Zhigang
;
Yang, Bing
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浏览/下载:54/0
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提交时间:2021/10/15
Diamond/beta-SiC
Composite
Universality
WC-Co
High-performance
The kinetics of diamond films growth over large area by hot-filament CVD
期刊论文
New Carbon Materials, 2005, 卷号: 20, 期号: 3, 页码: 229-234
A. Y. Wang
;
P. L. Ke
;
C. Sun
;
R. F. Huang
;
L. S. Wen
收藏
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2012/04/14
hot-filament CVD
diamond films
growth kinetics
simulations
chemical-vapor-deposition
cathode dc-pcvd
raman-spectroscopy
thin-films
stress
phase
Two-dimensional simulations of temperature fields of the reactor wall during hot-filament CVD diamond film growth over a large area
期刊论文
Modelling and Simulation in Materials Science and Engineering, 2004, 卷号: 12, 期号: 2, 页码: 325-335
A. Y. Wang
;
C. Sun
;
H. T. Cao
;
A. L. Ji
;
R. F. Huang
;
L. S. Wen
收藏
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2012/04/14
chemical-vapor-deposition
heat-transfer
gas-flow
hfcvd
The deposition of oriented diamond film by hot-filament chemical vapor deposition with separate reactant gas
期刊论文
Journal of Materials Research, 1999, 卷号: 14, 期号: 8, 页码: 3196-3199
G. C. Chen
;
C. Sun
;
R. F. Huang
;
L. S. Wen
;
D. Y. Jiang
;
X. Z. Yao
收藏
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2012/04/14
growth
morphology
mechanism
surfaces
si(100)
plasma
c-13
cvd
Electric degradation behavior of hot filament in diamond chemical vapor deposition
期刊论文
Journal of Vacuum Science & Technology a-Vacuum Surfaces and Films, 1999, 卷号: 17, 期号: 5, 页码: 3108-3110
G. C. Chen
;
R. F. Huang
;
L. S. Wen
收藏
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2012/04/14
growth
mechanism
hydrogen
c-13
cvd
Enhancement of the HFCVD diamond growth process by directed gas flow
期刊论文
Materials Letters, 1997, 卷号: 32, 期号: 2-3, 页码: 143-146
J. Yu
;
R. F. Huang
;
L. S. Wen
;
C. X. Shi
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2012/04/14
diamond
HFCVD
gas flow rate
growth rate
active species
low-pressure
deposition
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