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Scaling of the anomalous Hall effect in ferrimagnetic Co90Gd10 thin films 会议论文
2015 IEEE International Magnetics Conference, INTERMAG 2015, Beijing, China, May 11, 2015 - May 15, 2015
作者:  Han, J.;  Sui, W.;  Yang, D.;  Wang, T.;  Chen, H.
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Scaling of the anomalous Hall effect in ferrimagnetic Co90Gd10 thin films. 会议论文
IEEE International Magnetics Conference (Intermag), Beijing, PEOPLES R CHINA, MAY 11-15, 2015
作者:  Han, J;  Sui, W;  Yang, D;  Wang, T;  Chen, H
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溶胶-凝胶法制备K-N共掺ZnO薄膜的结构及光学特性 期刊论文
功能材料/Gongneng Cailiao/Journal of Functional Materials, 2013, 卷号: 44, 期号: 22, 页码: 3301-3304
作者:  张振兴;  张海军;  廖梦舟;  周华;  谢二庆
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Atomic diffusion and interface reaction of Cu/Si (111) films prepared by ionized cluster beam deposition 会议论文
17th International Conference on Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB), Harbin, PEOPLES R CHINA, SEP 13-17, 2011
作者:  Cao, B;  Yang, TR;  Li, GP;  Cho, S;  Kim, H
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Structural and stable properties of ZnSe/Si core-shell nanowire heterostructures: The first principles calculation 会议论文
8th International Conference on Thin Film Physics and Applications, TFPA 2013, Shanghai, China, September 20, 2013 - September 23, 2013
作者:  Zeng, Yijie;  Zhou, Bofan;  Huang, Yan;  Fang, Yanbian;  Lu, Aijiang
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Influence of substrate on soft magnetic properties of Fe-Co-Si/native oxide multilayer films 会议论文
3rd International Conference on Advanced Engineering Materials and Technology, AEMT 2013, Zhangjiajie, China, May 11, 2013 - May 12, 2013
作者:  Zuo, Hua Ping;  Ge, Shi Hui;  Zhang, Feng;  Wang, Guo Wei;  Xu, Min
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衬底温度及蒸发条件对有机光电探测器性能的影响 期刊论文
光电子·激光/Guangdianzi Jiguang/Journal of Optoelectronics Laser, 2012, 卷号: 23, 期号: 3, 页码: 439-444
作者:  张旭;  何锡源;  王德明
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Etch characteristics of Si1-xGex films in HNO3:H2O:HF 期刊论文
SCIENCE CHINA-TECHNOLOGICAL SCIENCES, 2011, 卷号: 54, 期号: 10, 页码: 2802-2807
作者:  Xue, ZY;  Wei, X;  Liu, LJ;  Chen, D;  Zhang, B
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Diffusion and Interface Reaction of Cu/Si (100) Films Prepared by Cluster Beam Deposition 期刊论文
CHINESE PHYSICS LETTERS, 2011, 卷号: 28, 期号: 3, 页码: -
作者:  Gao, XX;  Jia, YH;  Li, GP;  Cho, SJ;  Kim, H
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退火气氛对铝诱导a-Si薄膜结晶过程的影响 期刊论文
半导体学报/Pan Tao Ti Hsueh Pao/Chinese Journal of Semiconductors, 2008, 卷号: 29, 期号: 8, 页码: 1544-1547
作者:  王成龙;  范多旺;  孙硕;  张福甲
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