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缓蚀剂在铜化学机械抛光过程中的作用研究 期刊论文
2010, 2010
张伟; 路新春; 刘宇宏; 雒建斌; ZHANG Wei; LU Xin-chun; LIU Yu-hong; LUO Jian-bin
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氨基乙酸-H_2O_2体系抛光液中铜的化学机械抛光研究 期刊论文
2010, 2010
张伟; 路新春; 刘宇宏; 潘国顺; 雒建斌; ZHANG Wei; LU Xin-chun; LIU Yu-hong; LUO Jian-bin
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