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会议论文 [9]
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90
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The total ionizing dose effect on SiO2 and new high-k gate dielectrics under gamma-ray irradiation
会议论文
作者:
Ding, Man
;
Cheng, Yonghong
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2019/11/19
Equivalent oxide thickness
Gamma irradiation
Gamma-ray irradiation
Interface trapped charges
Silicon dangling bond
Thermally oxidized
Total ionizing dose effects
Trapping efficiencies
Carrier-mobility improvement for pentacene OTFT with LaZrO dielectric by using Pd gate
会议论文
作者:
Ma, Yuan-Xiao
;
Han, Chuan-Yu
;
Lai, P.T.
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2019/11/26
E beam evaporation
Gate electrodes
Heavily doped silicons
High- k
Metal gate
Organic thin film transistors
Pd gates
Pentacenes
Influences of k values of gate dielectric and buried insulator on subthreshold slope of UTB SOI MOSFETs
会议论文
作者:
Ji, Feng
;
Liu, Lu
;
Huang, Yong
;
Xu, Jing-Ping
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2019/12/27
MOSFET
subthreshold slope
buried insulator
high-k gate dielectric
Channel Hot-Carrier Degradation Characteristics and Trap Activities of High-k/Metal Gate nMOSFETs
会议论文
作者:
Wang WW(王文武)
;
Luo WC(罗维春)
;
Yang H(杨红)
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浏览/下载:6/0
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提交时间:2014/10/30
HfO2-TiO2 Ultra-Thin Gate Dielectric by RF Sputtering
会议论文
作者:
Li, G. X.
;
Chen, X. F.
;
Ren, W.
;
Shi, P.
;
Wu, X. Q.
收藏
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2019/12/10
HfTiO4 thin films
sputtering
High-K gate dielectrics
聚酰亚胺/TiO_2纳米复合膜绝缘层在OTFT中的应用
会议论文
中国化学会第二十五届学术年会论文摘要集(下册), Abstracts of the 25th CCS Congress(Ⅱ), 中国化学会第二十五届学术年会, 25th CCS Congress, 中国吉林长春, CNKI, 中国化学会
赵谊华
;
董桂芳
;
邱勇
;
Yihua Zhao
;
Guifang Dong
;
Yong Qiu
收藏
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浏览/下载:5/0
Preparation and properties of Ni-Si-O thin film prepared by sol-gel method
会议论文
High-Performance Ceramics IV, Pts 1-3, 4th China International Conference on High-Performance Ceramics (CICC-4), Chengdu, PEOPLES R CHINA, Web of Science
Zhao, Rongjuan
;
Lin, Yuanhua
;
Cai, Jingnan
;
Nan, Ce-Wen
;
Xie, Dan
收藏
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2017/06/15
Ni-Si-O
thin fim
sol-gel
leakage current
HIGH-DIELECTRIC-CONSTANT
ATOMIC-LAYER DEPOSITION
K GATE DIELECTRICS
TA2O5
TIO2
Materials Science, Ceramics
Materials Science, Composites
Low-Voltage Polymer Thin-Film Transistors with High-k HfTiO Gate Dielectric Annealed in NH3 or N-2 (CPCI-S收录)
会议论文
2009 IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE OF ELECTRON DEVICES AND SOLID-STATE CIRCUITS (EDSSC 2009)
作者:
Deng, L. F.[1]
;
Choi, H. W.[1]
;
Lai, P. T.[1]
;
Liu, Y. R.[2]
;
Xu, J. P.[3]
收藏
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浏览/下载:6/0
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提交时间:2019/04/17
Low-voltage polymer thin-film transistors with high-k HfTiO gate dielectric annealed in NH3 or N2 (EI收录)
会议论文
2009 IEEE International Conference on Electron Devices and Solid-State Circuits, EDSSC 2009, Xi'an, China, December 25, 2009 - December 27, 2009
作者:
Deng, L.F.[1]
;
Choi, H.W.[1]
;
Lai, P.T.[1]
;
Liu, Y.R.[2]
;
Xu, J.P.[3]
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/04/17
Annealing
Carrier mobility
Coatings
Dielectric devices
Dielectric films
Gate dielectrics
Gates (transistor)
Hafnium
Polymeric films
Semiconducting organic compounds
Solid state devices
Spin dynamics
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