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西安光学精密机械研究... [4]
内容类型
专利 [4]
发表日期
2005 [1]
2001 [1]
1989 [1]
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InAlAs having enhanced oxidation rate grown under very low V/III ratio
专利
专利号: US20050243881A1, 申请日期: 2005-11-03, 公开日期: 2005-11-03
作者:
KWON, HOKI
;
WANG, TZU-YU
;
RYOU, JAE-HYUN
;
KIM, JIN K.
;
PARK, GYOUNGWON
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浏览/下载:16/0
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提交时间:2020/01/18
Method and apparatus for producing group-III nitrides
专利
专利号: US20010006845A1, 申请日期: 2001-07-05, 公开日期: 2001-07-05
作者:
KRYLIOUK, OLGA
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2019/12/30
Semiconductor structures utilizing semiconductor support means selectively pretreated with migratory defects
专利
专利号: US4871690, 申请日期: 1989-10-03, 公开日期: 1989-10-03
作者:
HOLONYAK, JR., NICK
;
BURNHAM, ROBERT D.
收藏
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2019/12/24
Maskless lateral epitaxial overgrowth of aluminum nitride and high aluminum composition aluminum gallium nitride
专利
专利号: WO2005041269A3, 公开日期: 2006-03-30
作者:
KATONA THOMAS M
;
KELLER STACIA
;
ALEJANDRO PABLO CANTU
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2019/12/26
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