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一种石墨烯基底上生长高质量GaN缓冲层的制备方法 专利
专利号: CN104409319A, 申请日期: 2015-03-11, 公开日期: 2015-03-11
作者:  南琦;  王怀兵;  王辉;  吴岳;  傅华
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包含超晶格隔离层的大晶格失配外延材料缓冲层结构及其制备 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN101814429A, 申请日期: 2010-08-25, 公开日期: 2010-08-25
顾溢; 张永刚
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