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科研机构
西安光学精密机械研究... [5]
内容类型
专利 [5]
发表日期
2015 [1]
1991 [1]
1989 [1]
1982 [2]
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内容类型:专利
专题:西安光学精密机械研究所
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Apparatus and methods for pulsed photo-excited deposition and etch
专利
专利号: US9123527, 申请日期: 2015-09-01, 公开日期: 2015-09-01
作者:
MOFFATT, STEPHEN
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2019/12/24
Method of controlling dopant incorporation in high resistivity In-based compound Group III-V epitaxial layers
专利
专利号: US4999315, 申请日期: 1991-03-12, 公开日期: 1991-03-12
作者:
JOHNSTON, JR., WILBUR D.
;
KARLICEK, JR., ROBERT F.
;
LONG, JUDITH A.
;
WILT, DANIEL P.
收藏
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2019/12/26
Semiconductor devices employing high resistivity in-based compound group III-IV epitaxial layer for current confinement
专利
专利号: US4888624, 申请日期: 1989-12-19, 公开日期: 1989-12-19
作者:
JOHNSTON, JR., WILBUR D.
;
KARLICEK, JR., ROBERT F.
;
LONG, JUDITH A.
;
WILT, DANIEL P.
收藏
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浏览/下载:16/0
  |  
提交时间:2019/12/26
Channelled substrate double heterostructure lasers
专利
专利号: US4329189, 申请日期: 1982-05-11, 公开日期: 1982-05-11
作者:
NOAD, JULIAN P.
;
SPRINGTHORPE, ANTHONY J.
;
LOOK, CHRISTOPHER M.
收藏
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浏览/下载:8/0
  |  
提交时间:2019/12/26
Chanelled substrate double heterostructure lasers
专利
专利号: US4323859, 申请日期: 1982-04-06, 公开日期: 1982-04-06
作者:
NOAD, JULIAN P.
;
SPRINGTHORPE, ANTHONY J.
;
LOOK, CHRISTOPHER M.
收藏
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2019/12/26
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