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Apparatus and methods for pulsed photo-excited deposition and etch 专利
专利号: US9123527, 申请日期: 2015-09-01, 公开日期: 2015-09-01
作者:  MOFFATT, STEPHEN
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Method of controlling dopant incorporation in high resistivity In-based compound Group III-V epitaxial layers 专利
专利号: US4999315, 申请日期: 1991-03-12, 公开日期: 1991-03-12
作者:  JOHNSTON, JR., WILBUR D.;  KARLICEK, JR., ROBERT F.;  LONG, JUDITH A.;  WILT, DANIEL P.
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Semiconductor devices employing high resistivity in-based compound group III-IV epitaxial layer for current confinement 专利
专利号: US4888624, 申请日期: 1989-12-19, 公开日期: 1989-12-19
作者:  JOHNSTON, JR., WILBUR D.;  KARLICEK, JR., ROBERT F.;  LONG, JUDITH A.;  WILT, DANIEL P.
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Channelled substrate double heterostructure lasers 专利
专利号: US4329189, 申请日期: 1982-05-11, 公开日期: 1982-05-11
作者:  NOAD, JULIAN P.;  SPRINGTHORPE, ANTHONY J.;  LOOK, CHRISTOPHER M.
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Chanelled substrate double heterostructure lasers 专利
专利号: US4323859, 申请日期: 1982-04-06, 公开日期: 1982-04-06
作者:  NOAD, JULIAN P.;  SPRINGTHORPE, ANTHONY J.;  LOOK, CHRISTOPHER M.
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