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科研机构
兰州化学物理研究所 [2]
内容类型
专利 [1]
期刊论文 [1]
发表日期
2014 [1]
2007 [1]
学科主题
材料科学与物理化学 [2]
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学科主题:材料科学与物理化学
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甲烷流量对中频磁控溅射制备TiSi-C:H薄膜生长和性能的影响(英文)
期刊论文
稀有金属材料与工程, 2014, 卷号: 43, 期号: 10, 页码: 2305-2310
作者:
姜金龙
;
陈娣
;
王琼
;
黄浩
;
朱维君
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提交时间:2016/02/15
a-C:H films
middle-frequency magnetron sputtering
mechanical property
tribological property
a-C:H薄膜
中频磁控溅射
力学性能
摩擦性能
含纳米金颗粒的类金刚石碳薄膜的制备方法
专利
专利类型: 发明, 专利号: 200310121062.X, 申请日期: 2007-09-05, 公开日期: 2005-06-29
作者:
阎兴斌
;
杨生荣
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提交时间:2013/09/16
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