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等离子体薄膜沉积装置 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN203999809U, 申请日期: 2014-12-10, 公开日期: 2014-12-10, 2014-12-10, 2014-12-10, 2014-12-10
叶继春; 邬苏东; 高平奇; 杨映虎; 韩灿
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