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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 限定条件 学科主题：微电子学    专题：半导体研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 反应离子刻蚀工艺仿真模型的研究 期刊论文 功能材料与器件学报, 2000, 卷号: 6, 期号: 4, 页码: 420 陆建祖; 魏红振; 李玉鉴; 张永刚; 林世鸣; 余金中; 刘忠立 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2010/11/23 ICP干法刻蚀工艺制备剖面为正梯形的台面的方法 专利 专利类型: 发明, 公开日期: 2013-08-21 徐晓娜; 胡传贤; 樊中朝; 王晓东; 杨富华 收藏  |  浏览/下载：47/0  |  提交时间：2014/11/17