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科研机构
半导体研究所 [3]
内容类型
会议论文 [3]
发表日期
2009 [1]
2003 [1]
2000 [1]
学科主题
半导体材料 [3]
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学科主题:半导体材料
内容类型:会议论文
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In-Situ Boron and Aluminum Doping and Their Memory Effects in 4H-SiC Homoepitaxial Layers Grown by Hot-Wall LPCVD
会议论文
international conference on silicon carbide and related materials, otsu, japan, oct 14-19, 2007
Sun, GS
;
Zhao, YM
;
Wang, L
;
Wang, L
;
Zhao, WS
;
Liu, XF
;
Ji, G
;
Zeng, YP
收藏
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浏览/下载:41/0
  |  
提交时间:2010/03/09
in-situ doping
boron
aluminum
memory effects
hot-wall LPCVD
4H-SiC
Effects and numerical analysis of argon gas flow on the oxygen concentration in Czochralski silicon single crystal growth
会议论文
iumrs/icem 2002 conference, xian, peoples r china, jun 10-14, 2002
Zhang ZC
;
Ren BY
;
Chen YH
;
Yang SY
;
Wang ZG
收藏
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浏览/下载:27/0
  |  
提交时间:2010/11/15
Czochralski method
growth from melt
semiconductor silicon
argon gas flow
computer simulation
oxygen content
FURNACE PRESSURE
Improvement of thin silicon on sapphire (SOS) film materials and device performances by solid phase epitaxy
会议论文
international conference on advanced materials: sympopsium m - silicon-based materials and devices, beijing, peoples r china, jun 13-18, 1999
作者:
Yu F
收藏
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浏览/下载:17/0
  |  
提交时间:2010/11/15
solid phase epitaxy
silicon on sapphire (SOS)
carrier mobility
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