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半导体研究所 [4]
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期刊论文 [3]
会议论文 [1]
发表日期
2011 [1]
2010 [2]
2000 [1]
学科主题
光电子学 [4]
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学科主题:光电子学
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Highly efficient 1.53 mu m luminescence in ErxYb2-xSi2O7 thin films grown on Si substrate
期刊论文
materials letters, 2011, 卷号: 65, 期号: 5, 页码: 860-862
Zheng J
;
Tao YL
;
Wang W
;
Zhang LZ
;
Zuo YH
;
Xue CL
;
Cheng BW
;
Wang QM
收藏
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浏览/下载:65/3
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提交时间:2011/07/05
Luminescence
Optical materials and properties
Sputtering
Thin films
PHOTOLUMINESCENCE
ER3+
Quantitative strain characterization of SiGe heterostructures by high-resolution transmission electron microscopy
期刊论文
physica b-condensed matter, 2010, 卷号: 405, 期号: 16, 页码: 3433-3435
Zhao CW (Zhao C. W.)
;
Xing YM (Xing Y. M.)
;
Yu JZ (Yu J. Z.)
;
Han GQ (Han G. Q.)
收藏
  |  
浏览/下载:100/3
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提交时间:2010/09/07
Si/Ge heterostructures
Strain
High-resolution Transmission electron
microscopy
Normal incidence p-i-n Ge heterojunction photodiodes on Si substrate grown by ultrahigh vacuum chemical vapor deposition
期刊论文
optics communications, 2010, 卷号: 283, 期号: 18, 页码: 3404-3407
Zhou ZW (Zhou Zhiwen)
;
He JK (He Jingkai)
;
Wang RC (Wang Ruichun)
;
Li C (Li Cheng)
;
Yu JZ (Yu Jinzhong)
收藏
  |  
浏览/下载:85/0
  |  
提交时间:2010/08/17
Germanium
Hererojunction
Photodiode
Tensile strain
In situ annealing during the growth of relaxed SiGe
会议论文
conference on optical and infrared thin films, san diego, ca, 36739
Li DZ
;
Huang CJ
;
Cheng BW
;
Wang HJ
;
Yu Z
;
Zhang CH
;
Yu JZ
;
Wang QM
收藏
  |  
浏览/下载:14/0
  |  
提交时间:2010/10/29
Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition
SiGe
Refractive High Energy Electron Diffraction
tansmission electron microscopy
Double Crystal X-Ray Diffraction
MOBILITY 2-DIMENSIONAL ELECTRON
CRITICAL THICKNESS
STRAINED LAYERS
GE
RELAXATION
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