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浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 限定条件 学科主题：光学薄膜     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 薄膜厚度对HfO2薄膜残余应力的影响 期刊论文 稀有金属材料与工程, 2007, 卷号: 36, 期号: 3, 页码: 412, 415 申雁鸣; 贺洪波; 邵淑英; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：1101/176  |  提交时间：2009/09/22 HfO2薄膜  HfO2 thin film  残余应力  residual stress  膜厚  thin film thickness  电子束蒸发  electron beam evaporation   沉积温度对电子束蒸发HfO2薄膜残余应力的影响 期刊论文 中国激光, 2006, 卷号: 33, 期号: 6, 页码: 827, 831 申雁鸣; 贺洪波; 邵淑英; 范正修 收藏  |  浏览/下载：725/114  |  提交时间：2009/09/22 薄膜  HfO2薄膜  残余应力  沉积温度  基底  电子束蒸发   沉积温度对HfO2薄膜残余应力的影响 期刊论文 强激光与粒子束, 2005, 卷号: 17, 期号: 12, 页码: 1812, 1816 申雁鸣; 贺洪波; 邵淑英; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：566/107  |  提交时间：2009/09/22 HfO2薄膜  HfO2 films  残余应力  Residual stress  沉积温度  Deposition temperature  微结构  Microstructure  X射线衍射  XRD   ZrO2／SiO2多层膜中膜厚组合周期数及基底材料对残余应力的影响 期刊论文 物理学报, 2005, 卷号: 54, 期号: 7, 页码: 3312, 3316 邵淑英; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：896/166  |  提交时间：2009/09/22 残余应力  ZrO2/SiO2 multilayers  SiO2  residual stress  ZrO2  periods of repeating thickness  多层膜  周期数  组合  膜厚  基底材料  X射线衍射技术  玻璃基底  电子束蒸发  光学干涉仪  应力值  沉积条件  曲率半径  测量分析  石英基底  变化趋势  结构应变  结晶程度  相互作用  折射率  熔石英  压应力  微结构   沉积参量及时效时间对SiO2薄膜残余应力的影响 期刊论文 光学学报, 2005, 卷号: 25, 期号: 1, 页码: 126, 130 邵淑英; 田光磊; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：603/126  |  提交时间：2009/09/22 薄膜光学  thin film optics  SiO2薄膜  SiO2 films  残余应力  residual stress  沉积温度  deposition temperature  氧分压  oxygen partial pressure  时效  aging