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干涉型成像光谱仪内方位元素及畸变标定方法 专利
专利号: CN202010461031.2, 申请日期: 2021-09-14, 公开日期: 2021-09-14
作者:  刘尚阔;  周艳;  赵建科;  曹昆;  李晶
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