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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：2020     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Improvement of GaN plasma etching uniformity by optimizing the coil electrode with plasma simulation and experimental validation 期刊论文 SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2020, 卷号: 400 作者:  Xiao, Dezhi;  Ruan, Qingdong;  Liu, Liangliang;  Shen, Jie;  Cheng, Cheng 收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2020/11/26 GaN  Plasma etching  Inductively-coupled plasma  Field coupling  Uniformity  Plasma simulation