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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：2018    专题：安徽大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Modulation of the microstructure, optical, and electrical properties of HfYO gate dielectrics by annealing temperature 期刊论文 JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2018, 卷号: Vol.735, 页码: 1427-1434 作者:  Wang,D.;  Zheng,C. Y.;  Zhu,L.;  Zhang,C.;  Liang,S. 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/04/24 FLAT-BAND VOLTAGE  HFO2 THIN-FILMS  YTTRIUM  HAFNIUM  Y2O3  FABRICATION  SILICON  STACK  ALD