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一种掩膜图形的优化方法、最佳焦平面位置测量方法及系统 专利
专利号: CN201610342206.1, 申请日期: 2017-06-30, 公开日期: 2016-07-20
作者:  韦亚一;  董立松;  宋之洋
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193nm投影光刻物镜光机系统关键技术研究进展 期刊论文
中国科学:技术科学, 2017, 页码: 565-581
作者:  张德福;  李显凌;  芮大为;  李朋志;  东立剑
收藏  |  浏览/下载:42/0  |  提交时间:2018/04/09
大偏离度非球面检测畸变校正方法 期刊论文
中国光学, 2017, 页码: 383-390
作者:  高松涛;  武东城;  苗二龙
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干涉面形绝对检测不确定度评估方法研究 学位论文
博士, 北京: 中国科学院研究生院, 2017
作者:  全海洋
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