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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 发表日期：2017    专题：北京大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Atomic hydrogen induced defect kinetics in amorphous silicon 期刊论文 JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 2017 Peeters, Floran J. J.; Zheng, Jie; Aarts, Igor M. P.; Pipino, Andrew C. R.; Kessels, Wilhelmus M. M.; van de Sanden, Mauritius C. M. 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2017/12/03 A-SI-H  HOT-WIRE DEPOSITION  TIME SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETRY  CAVITY RINGDOWN SPECTROSCOPY  MICROCRYSTALLINE SILICON  THIN-FILMS  INFRARED-SPECTROSCOPY  SI(100) SURFACES  DANGLING BONDS  CRYSTALLINE SILICON   Geometric design of micron-sized crystalline silicon anodes through in situ observation of deformation and fracture behaviors 期刊论文 JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY A, 2017 Zhang, Xing-yu; Song, Wei-Li; Liu, Zhanli; Chen, Hao-Sen; Li, Teng; Wei, Yujie; Fang, Dai-ning 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2017/12/03 LITHIUM-ION BATTERIES  NEGATIVE ELECTRODES  ENERGY DENSITY  LITHIATION  LI  INSERTION  NANOPILLARS  PARTICLES  KINETICS  FAILURE   Optimization of residual stress of SiO2/organic silicon stacked layer prepared using inductively coupled plasma deposition 其他 2017-01-01 Hsu, Chia-Hsun; Cho, Yun-Shao; Liu, Ting-Xuan; Chang, Hsi-Wei; Lien, Shui-Yang 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2017/12/03 Organic silicon  Residual stress  Encapsulation  Water vapor transmission rate  Trimethylsilane  LIGHT-EMITTING-DIODES  AMORPHOUS-SILICON  DEGRADATION MECHANISMS  FILMS  TRIMETHYLSILANE  VAPOR   Optimization of residual stress of SiO2/organic silicon stacked layer prepared using inductively coupled plasma deposition 期刊论文 8th International Conference on Technological Advances of Thin Films and Surface Coatings (ThinFilms), 2017 Hsu, Chia-Hsun; Cho, Yun-Shao; Liu, Ting-Xuan; Chang, Hsi-Wei; Lien, Shui-Yang 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2017/12/03 Organic silicon  Residual stress  Encapsulation  Water vapor transmission rate  Trimethylsilane  LIGHT-EMITTING-DIODES  AMORPHOUS-SILICON  DEGRADATION MECHANISMS  FILMS  TRIMETHYLSILANE  VAPOR