×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
CORC
首页
科研机构
检索
知识图谱
申请加入
托管服务
登录
注册
在结果中检索
科研机构
北京大学 [16]
苏州纳米技术与纳米仿... [8]
微电子研究所 [7]
大连化学物理研究所 [6]
西安交通大学 [5]
上海大学 [5]
更多...
内容类型
期刊论文 [93]
学位论文 [3]
专利 [2]
会议论文 [2]
其他 [1]
发表日期
2016 [101]
学科主题
materials ... [1]
半导体材料 [1]
材料科学与物理化学 [1]
×
知识图谱
CORC
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共101条,第1-10条
帮助
限定条件
发表日期:2016
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
远程等离子体辅助原子层沉积技术制备HfO2薄膜及HfO2/Ge界面性质研究
学位论文
2016, 2016
池晓伟
收藏
  |  
浏览/下载:4/0
  |  
提交时间:2017/06/20
远程等离子体辅助原子层沉积
HfO2/Ge界面
N2等离子体预处理
Remote plasma Atomic Layer deposition
HfO2/Ge interface
N2 plasma pretreatment
原子层沉积HfO2薄膜及其1D1R器件阻变特性研究
学位论文
2016, 2016
陆超
收藏
  |  
浏览/下载:8/0
  |  
提交时间:2017/06/20
阻变存储器
原子层沉积
HfO2
Resistive switching random access memory (RRAM)
Atomic layer deposition (ALD)
HfO2
Tribocorrosion Failure Mechanism of TiN/SiOx Duplex Coating Deposited on AISI304 Stainless Steel
期刊论文
MATERIALS, 2016, 卷号: 9, 期号: 12, 页码: 12
作者:
Chen, Qiang
;
Xie, Zhiwen
;
Chen, Tian
;
Gong, Feng
收藏
  |  
浏览/下载:14/0
  |  
提交时间:2018/03/15
TiN/SiOx duplex coating
corrosion
tribocorrosion
force-corrosion synergistic effect
multi-degradation failure
Evident Enhancement of Photoelectrochemical Hydrogen Production by Electroless Deposition of M-B (M = Ni, Co) Catalysts on Silicon Nanowire Arrays
期刊论文
ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES, 2016, 卷号: 8, 期号: 44, 页码: 30143-30151
作者:
Sunt, Licheng
;
Yang, Yong
;
Wang, Mei
收藏
  |  
浏览/下载:20/0
  |  
提交时间:2019/06/20
Cobalt Boride
Nickel Boride
Silicon
Photocathode
Hydrogen Evolution Reaction
Photoelectrochemical Catalysis
Modification of ultrafiltration membrane with iron/aluminum mixed hydrolyzed precipitate layer for humic acid fouling reduction
期刊论文
DESALINATION AND WATER TREATMENT, 2016, 卷号: 57, 期号: 54, 页码: 26022-26030
作者:
Xie, Yiruiwen
;
Liu, Huijuan
;
Zhang, Xuehong
;
Qu, Jiuhui
;
Ma, Baiwen
收藏
  |  
浏览/下载:25/0
  |  
提交时间:2017/04/01
Ultrafiltration
Humic Acid
Fouling Reduction
Iron
Aluminum Mixed Flocs
Pre-deposition
Highly improved resistive switching performances of the self-doped Pt-HfO2Cu-Cu devices by atomic layer deposition
期刊论文
Science China Physics, Mechanics & Astronomy, 2016
作者:
Liu S(刘森)
;
Wang W(王伟)
;
Liu M(刘明)
收藏
  |  
浏览/下载:9/0
  |  
提交时间:2017/05/11
00-nm Gate-Length GaAs mHEMTs using Si-doped InP/InAlAs schottky layers and atomic layer deposition Al2O3 Passivation with fmax of 388.2 GHz
会议论文
作者:
Wang SK(王盛凯)
;
Chang HD(常虎东)
收藏
  |  
浏览/下载:13/0
  |  
提交时间:2017/05/18
Mass Production of Nanogap Electrodes toward Robust Resistive Random Access Memory
期刊论文
ADVANCED MATERIALS, 2016, 卷号: 28, 期号: 37, 页码: 8227-8233
作者:
Cui, Ajuan
;
Liu, Zhe
;
Dong, Huanli
;
Yang, Fangxu
;
Zhen, Yonggang
收藏
  |  
浏览/下载:42/0
  |  
提交时间:2017/01/11
nanofabrication
nanogap electrodes
nonvolatile resistive switches
亚波长极紫外金属透射光栅及其制作方法
专利
专利号: US9442230, 申请日期: 2016-09-13, 公开日期: 2014-06-26
作者:
李海亮
;
谢常青
;
刘明
;
李冬梅
;
史丽娜
收藏
  |  
浏览/下载:9/0
  |  
提交时间:2017/06/09
Passivation effect of atomic layer deposition of al2o3 film on hgcdte infrared detectors
期刊论文
Journal of electronic materials, 2016, 卷号: 45, 期号: 9, 页码: 4716-4720
作者:
Zhang, Peng
;
Ye, Zhen-Hua
;
Sun, Chang-Hong
;
Chen, Yi-Yu
;
Zhang, Tian-Ning
收藏
  |  
浏览/下载:75/0
  |  
提交时间:2019/05/09
Ald al2o3
Minority carrier lifetime
C-v characteristics
R-v characteristics
Baking stability
©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by
CSpace