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期刊论文 [2]
专利 [1]
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2013 [3]
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发表日期:2013
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Lateral Ge segregation and strain evolution in SiGe alloys during the formation of nickel germano-silicide on a relaxed Si073Ge 027 epilayer
期刊论文
http://dx.doi.org/10.1063/1.4813778, 2013
Tang, Mengrao
;
Lin, Guangyang
;
Li, Cheng
;
Wang, Chen
;
Zhang, Maotian
;
Huang, Wei
;
Lai, Hongkai
;
Chen, Songyan
;
李成
;
赖虹凯
;
陈松岩
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提交时间:2015/07/22
Epilayers
Grain boundaries
Nickel
Silicides
Silicon
Silicon alloys
Lateral Ge segregation and strain evolution in SiGe alloys during the formation of nickel germano-silicide on a relaxed Si073Ge027 epilayer
期刊论文
http://dx.doi.org/10.1063/1.4813778, 2013
Tang, Mengrao
;
Lin, Guangyang
;
Li, Cheng
;
Wang, Chen
;
Zhang, Maotian
;
Huang, Wei
;
Lai, Hongkai
;
Chen, Songyan
;
李成
;
黄巍
;
陈松岩
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提交时间:2015/07/22
FILMS
NI
Metal silicide catalyst for selective hydrogenation of 1,4-butynediol comprises silicon nickel, silicon cobalt, silicon iron, silicon palladium or silicon molybdenum and carbon material carrier/oxide carrier/molecular screen carrier.
专利
申请日期: 2013-01-01, 公开日期: 2013-12-04
作者:
ZHANG M LI C LIANG C CHEN X
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提交时间:2019/12/13
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