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浏览/检索结果: 共7条，第1-7条 帮助 限定条件 发表日期：2012    内容类型：期刊论文    专题：厦门大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Fabrication and Characterization of High-Quality Factor GaN-Based Resonant-Cavity Blue Light-Emitting Diodes 期刊论文 2012 Hu, Xiao-Long; Liu, Wen-Jie; Weng, Guo-En; Zhang, Jiang-Yong; Lv, Xue-Qin; Liang, Ming-Ming; Chen, Ming; Huang, Hui-Jun; Ying, Lei-Ying; Zhang, Bao-Ping; 张保平 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2013/02/22 Chemical-mechanical polishing (CMP)  high-quality factor  resonant-cavity light-emitting diode (RCLED)   Epitaxial growth of thick Ge layers with low dislocation density on silicon substrate by UHV/CVD 期刊论文 2012 Chen Cheng-Zhao; Zheng Yuan-Yu; Huang Shi-Hao; Li Cheng; Lai Hong-Kai; 赖洪凯; Chen Song-Yan; 陈松岩 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2013/04/15 Ge  epitaxial  UHVCVD  photoluminescence   Tailoring of polar and nonpolar ZnO planes on MgO (001) substrates through molecular beam epitaxy 期刊论文 2012 Zhou, Hua; Wang, Hui-Qiong; Liao, Xia-Xia; Zhang, Yufeng; Zheng, Jin-Cheng; Wang, Jia-Ou; Muhemmed, Emin; Qian, Hai-Jie; Ibrahim, Kurash; Chen, Xiaohang; 陈晓航; Zhan, Huahan; Kang, Junyong; 康俊勇 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2013/04/22 ZnO  MgO  polar  nonpolar  RHEED  XRD  XAS   Application of plasma polymerized siloxane films for the corrosion protection of titanium alloy 期刊论文 http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2011.10.035, 2012 Zhou, Lan; Lv, Guo-Hua; Ji, Chao; Yang, Si-Ze; 杨思泽 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2015/07/22 DIELECTRIC-BARRIER DISCHARGES  MICRO-ARC OXIDATION  ATMOSPHERIC-PRESSURE  THIN-FILMS  SURFACE-TREATMENT  DEPOSITION  COATINGS  BEHAVIOR  HEXAMETHYLDISILOXANE  INTERFACE   Depth-dependent etch pit density in Ge epilayer on Si substrate with a self-patterned Ge coalescence island template 期刊论文 http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2011.09.023, 2012 Huang, Shihao; Li, Cheng; Zhou, Zhiwen; Chen, Chengzhao; Zheng, Yuanyu; Huang, Wei; Lai, Hongkai; Chen, Songyan; 陈松岩 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2013/12/12 THREADING-DISLOCATION DENSITIES  CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION  LAYERS  GROWTH  REDUCTION  SILICON  FILMS  PHOTODETECTORS  SURFACTANT  GERMANIUM   Depth-dependent etch pit density in Ge epilayer on Si substrate with a self-patterned Ge coalescence island template 期刊论文 http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2011.09.023, 2012 Huang, Shihao; Li, Cheng; Zhou, Zhiwen; Chen, Chengzhao; Zheng, Yuanyu; Huang, Wei; Lai, Hongkai; Chen, Songyan; 李成 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2013/12/12 THREADING-DISLOCATION DENSITIES  CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION  LAYERS  GROWTH  REDUCTION  SILICON  FILMS  PHOTODETECTORS  SURFACTANT  GERMANIUM   硅基低位错密度厚锗外延层的UHV/CVD法生长 期刊论文 2012 陈城钊; 郑元宇; 黄诗浩; 李成; 赖虹凯; 陈松岩 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2016/05/17 Ge  外延生长  UHV/CVD  光致发光谱  Ge  epitaxial  UHVCVD  photoluminescence