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浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 限定条件 发表日期：2006    专题：半导体研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Deep level transient spectroscopy studies of Er and Pr implanted GaN films 期刊论文 acta physica sinica, 2006, 卷号: 55, 期号: 3, 页码: 1407-1412 Song SF; Chen WD; Xu ZJ; Xu XR 收藏  |  浏览/下载：45/0  |  提交时间：2010/04/11 GaN  Er  Pr-implautation  deep level transient spectroscopy  N-TYPE GAN  DEFECTS  EPITAXY  TRAPS   The study of high temperature annealing of a-SiC : H films 期刊论文 advanced materials forum iii, 2006, 卷号: pts 1 and 2 514-516, 期号: 0, 页码: 18-22 Zhang S; Hu Z; Raniero L; Liao X; Ferreira I; Fortunato E; Vilarinho P; Perreira L; Martins R 收藏  |  浏览/下载：62/0  |  提交时间：2010/04/11 silicon carbide  high temperature annealing  thin film  SILICON  PECVD   The role of Sb in the molecular beam epitaxy growth of 1.30-1.55 mu m wavelength GaInNAs/GaAs quantum well with high indium content 期刊论文 journal of crystal growth, 2006, 卷号: 290, 期号: 2, 页码: 494-497 Wu DH; Niu ZC; Zhang SY; Ni HQ; He ZH; Sun Z; Han Q; Wu RH 收藏  |  浏览/下载：85/0  |  提交时间：2010/04/11 photoluminescence  molecular beam epitaxy  quantum wells  nitrides  semiconducting III-V materials  IMPROVED LUMINESCENCE EFFICIENCY  LASER-DIODES  TEMPERATURE  SURFACTANT  EMISSION  NITROGEN  ORIGIN   The study of high temperature annealing of a-SiC : H films 会议论文 3rd international materials symposium/12th meeting of the sociedad-portuguesa-da-materials (materials 2005/spm), aveiro, portugal, mar 20-23, 2005 Zhang, S; Hu, Z; Raniero, L; Liao, X; Ferreira, I; Fortunato, E; Vilarinho, P; Perreira, L; Martins, R 收藏  |  浏览/下载：209/71  |  提交时间：2010/03/29 silicon carbide  high temperature annealing  thin film  SILICON  PECVD   Optical and structural properties of ZnO films grown on Si(100) substrates by MOCVD - art. no. 60290G 会议论文 20th congress of the international-commission-for-optics, changchun, peoples r china, aug 21-26, 2005 Shen, WJ; Duan, Y; Wang, J; Wang, QY; Zeng, YP 收藏  |  浏览/下载：95/18  |  提交时间：2010/03/29 ZnO  MOCVD  thermal annealing  photoluminescence  x-ray diffraction  atomic force microscopy  PULSED-LASER DEPOSITION  THIN-FILMS  PHOTOLUMINESCENCE  MECHANISMS  EPITAXY  CVD  SI   Recombination property of nitrogen-acceptor-bound states in ZnO 期刊论文 journal of applied physics, 2006, 卷号: 99, 期号: 4, 页码: art.no.046101 Yang XD; Xu ZY; Sun Z; Sun BQ; Ding L; Wang FZ; Ye ZZ 收藏  |  浏览/下载：49/0  |  提交时间：2010/04/11 MOLECULAR-BEAM EPITAXY  P-TYPE ZNO  OPTICAL-PROPERTIES  EXCITON FORMATION  PHOTOLUMINESCENCE  FILMS  SPECTROSCOPY  DYNAMICS  IMPURITY  ENERGY