高电阻低位错GaN薄膜及制备方法 | |
何晓光 ; 赵德刚 ; 江德生 ; 刘宗顺 ; 陈平 ; 杨静 ; 乐伶聪 ; 李晓静 ; 杨辉 | |
专利国别 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
权利人 | 中国科学院半导体研究所 |
学科主题 | 光电子学 |
公开日期 | 2014-06-25 |
申请日期 | 2014-03-07 |
专利申请号 | CN201410089597.1 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25764] |
专题 | 半导体研究所_光电子研究发展中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 何晓光,赵德刚,江德生,等. 高电阻低位错GaN薄膜及制备方法. |
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