在含镓氮化物上生长石墨烯薄膜的方法
赵云 ; 王刚 ; 孙连峰 ; 魏同波 ; 段瑞飞 ; 伊晓燕 ; 李晋闽
专利国别中国
专利类型发明
权利人中国科学院半导体研究所
学科主题半导体器件
公开日期2014
申请日期2013-09-17
专利申请号CN201310424531.9
内容类型专利
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25649]  
专题半导体研究所_中科院半导体照明研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
赵云,王刚,孙连峰,等. 在含镓氮化物上生长石墨烯薄膜的方法.
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