通用的多种材料间全限制量子点的自对准制备方法
付英春 ; 王晓峰 ; 张加勇 ; 白云霞 ; 梁秀琴 ; 马慧莉 ; 季安 ; 杨富华
专利国别中国
专利类型发明
权利人中国科学院半导体研究所
学科主题微电子学
公开日期2012-08-01
申请日期2012-03-29
专利申请号CN201210088596.6
内容类型专利
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25321]  
专题半导体研究所_半导体集成技术工程研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
付英春,王晓峰,张加勇,等. 通用的多种材料间全限制量子点的自对准制备方法.
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