待测光学系统杂散光检测方法及杂散光检测系统
潘亮 ; 张周锋 ; 赵建科 ; 徐亮 ; 田留德 ; 刘峰
2013-02-27
专利号CN103149016
专利类型发明
权利人中国科学院西安光学精密机械研究所
中文摘要本发明涉及一种待测光学系统杂散光检测方法及杂散光检测系统,该方法包括以下步骤:1)获取待测光学系统在不同视场角的像面的辐射照度;2)将待测光学系统更换为衰减片并获取含有该衰减片的辐射照度;3)根据步骤2)所得到的含有该衰减片的辐射照度获取待测光学系统在入瞳处的辐射照度;4)根据步骤1)以及步骤3)获取待测光学系统的点源透过率。本发明提供了一种能够对被测光系统杂散光抑制水平进行客观评价,避免目前采用杂散光系数评价的不确定性的待测光学系统杂散光检测方法及杂散光检测系统。  
公开日期2013-06-12
申请日期2013-02-27
专利申请号CN201310061851
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/21387]  
专题西安光学精密机械研究所_检测技术研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
潘亮,张周锋,赵建科,等. 待测光学系统杂散光检测方法及杂散光检测系统. CN103149016. 2013-02-27.
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