Defect revelation and evaluation of 4H silicon carbide by optimized molten KOH etching method
Lin Dong ; Liu Zheng ; Xingfang Liu
刊名materials science forum
2013
页码740-742
学科主题半导体材料
收录类别EI
语种英语
公开日期2014-05-16
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/24978]  
专题半导体研究所_中科院半导体材料科学重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
Lin Dong,Liu Zheng,Xingfang Liu. Defect revelation and evaluation of 4H silicon carbide by optimized molten KOH etching method[J]. materials science forum,2013:740-742.
APA Lin Dong,Liu Zheng,&Xingfang Liu.(2013).Defect revelation and evaluation of 4H silicon carbide by optimized molten KOH etching method.materials science forum,740-742.
MLA Lin Dong,et al."Defect revelation and evaluation of 4H silicon carbide by optimized molten KOH etching method".materials science forum (2013):740-742.
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