Defect revelation and evaluation of 4H silicon carbide by optimized molten KOH etching method | |
Lin Dong ; Liu Zheng ; Xingfang Liu | |
刊名 | materials science forum |
2013 | |
页码 | 740-742 |
学科主题 | 半导体材料 |
收录类别 | EI |
语种 | 英语 |
公开日期 | 2014-05-16 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/24978] |
专题 | 半导体研究所_中科院半导体材料科学重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Lin Dong,Liu Zheng,Xingfang Liu. Defect revelation and evaluation of 4H silicon carbide by optimized molten KOH etching method[J]. materials science forum,2013:740-742. |
APA | Lin Dong,Liu Zheng,&Xingfang Liu.(2013).Defect revelation and evaluation of 4H silicon carbide by optimized molten KOH etching method.materials science forum,740-742. |
MLA | Lin Dong,et al."Defect revelation and evaluation of 4H silicon carbide by optimized molten KOH etching method".materials science forum (2013):740-742. |
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