离子束抛光工艺中驻留时间的分步消去算法 | |
郭伟远 ; 成贤锴 ; 白华 | |
刊名 | 天文研究与技术 |
2011-10 | |
卷号 | 8期号:4页码:374-340 |
关键词 | 离子束抛光 驻留时间 矩阵运算 计算机控制光学表面成形 |
中文摘要 |
在离子束抛光工艺中,驻留时间的求解是很关键的。求解驻留时间是利用离子束加工函数和驻留时间的卷积等于镜面去除量的关系,而离子束抛光的过程就是一个执行解卷积的过程。受此启发,采用一种分步消去算法解矩阵的卷积运算。这种新算法占用计算机资源少,运算速度快,同时可以根据预先设定的加工精度算得满足要求的驻留时间函数。对这种新算法进行仿真分析,采用3 种不同的消去顺序分步加工,得到了理想的仿真结果,PV值由抛光前的363.721nm 分别减小到6.136nm、33. 347nm、3.875nm,抛光后的镜面精度提高了很多。 |
学科主题 | 天文镜面(材料、加工、检测) |
公开日期 | 2013-12-31 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.niaot.ac.cn/handle/114a32/526] |
专题 | 南京天文光学技术研究所_中科院南京天光所知识成果_期刊论文 南京天文光学技术研究所_大口径光学技术研究室_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 郭伟远,成贤锴,白华. 离子束抛光工艺中驻留时间的分步消去算法[J]. 天文研究与技术,2011,8(4):374-340. |
APA | 郭伟远,成贤锴,&白华.(2011).离子束抛光工艺中驻留时间的分步消去算法.天文研究与技术,8(4),374-340. |
MLA | 郭伟远,et al."离子束抛光工艺中驻留时间的分步消去算法".天文研究与技术 8.4(2011):374-340. |
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