椭偏法表征四面体非晶碳薄膜的化学键结构

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	椭偏法表征四面体非晶碳薄膜的化学键结构
	汪爱英
刊名	光学学报
	2012-10-01
卷号	33 期号:10 页码:1—7
通讯作者	汪爱英
合作状况	李雨桐
中文摘要	采用自主研制的双弯曲磁过滤阴极真空电弧（ＦＣＶＡ）技术，在不同衬底负偏压下制备了四面体非晶碳（ｔａ－Ｃ）薄膜。通过分光光度计和椭偏（ＳＥ）联用技术精确测量了薄膜厚度，重点采用椭偏法对不同偏压下制备的ｔａ－Ｃ薄膜ｓｐ３　Ｃ键和ｓｐ２　Ｃ键结构进行了拟合表征，并与Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）和拉曼光谱的实验结果相对比，分析了非晶碳结构的椭偏拟合新方法可靠性。结果表明，在－１００Ｖ偏压时薄膜厚度最小，为３３．９ｎｍ；随着偏压的增加，薄膜中的ｓｐ２　Ｃ含量增加，ｓｐ３　Ｃ含量减小，光学带隙下降。对比结果发现，椭偏法作为一种无损、简易、快速的表征方法，可用于ｔａ－Ｃ薄膜中ｓｐ２　Ｃ键和ｓｐ３　Ｃ键含量的准确测定，且在采用玻璃碳代表纯ｓｐ２　Ｃ的光学常数及拟合波长选取２５０～１７００ｎｍ时的椭偏拟合条件下，拟合数值最佳。
学科主题	材料科学
原文出处	SCI收录
公开日期	2013-12-16
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/9710]
专题	宁波材料技术与工程研究所_宁波所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	汪爱英. 椭偏法表征四面体非晶碳薄膜的化学键结构[J]. 光学学报,2012,33(10):1—7.
APA	汪爱英.(2012).椭偏法表征四面体非晶碳薄膜的化学键结构.光学学报,33(10),1—7.
MLA	汪爱英."椭偏法表征四面体非晶碳薄膜的化学键结构".光学学报 33.10(2012):1—7.