沉积温度对MOCVD制备ZnO纳米薄膜性质的影响

	沉积温度对MOCVD制备ZnO纳米薄膜性质的影响
	于富成; 李海山; 胡海龙; 宋天云; 许博宇; 何玲
刊名	兰州理工大学学报
	2018
期号	2018年03期页码:30-33
关键词	金属有机化学金相沉积化学气相沉积法 ZnO纳米薄膜沉积温度
ISSN号	ISSN：1673-5196
英文摘要	采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法在石英衬底上制备了ZnO纳米薄膜,考察了不同沉积温度对ZnO薄膜结构及光学性质的影响.结果表明:所有样品均表现出C轴择优的六角纤锌矿结构.随着沉积温度由700℃升高至800℃时,ZnO薄膜的半峰宽逐渐变窄,晶粒尺寸逐渐增大,光致发光强度逐渐增强,表明沉积温度的升高有利于晶体的生长.当沉积温度由800℃继续升高后,样品的半峰宽变宽,晶粒尺寸减小,光致发光强度降低,表明沉积温度过高产生热缺陷,不利于晶体的生长.
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语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://119.78.100.223/handle/2XXMBERH/2028]
专题	材料科学与工程学院
作者单位	兰州理工大学材料科学与工程学院
推荐引用方式 GB/T 7714	于富成,李海山,胡海龙,等. 沉积温度对MOCVD制备ZnO纳米薄膜性质的影响[J]. 兰州理工大学学报,2018(2018年03期):30-33.
APA	于富成,李海山,胡海龙,宋天云,许博宇,&何玲.(2018).沉积温度对MOCVD制备ZnO纳米薄膜性质的影响.兰州理工大学学报(2018年03期),30-33.
MLA	于富成,et al."沉积温度对MOCVD制备ZnO纳米薄膜性质的影响".兰州理工大学学报 .2018年03期(2018):30-33.