题名 | MoS2基多层薄膜结构设计及其摩擦学性能研究 |
作者 | 贺腾飞 |
答辩日期 | 2014 |
文献子类 | 硕士 |
授予单位 | 兰州理工大学 |
导师 | 吴有智 ; 王鹏 |
关键词 | 磁控溅射 多层薄膜 调制比 调制周期 氮气流量 结构 力学性能 摩擦学性能 |
学位名称 | 工学硕士 |
学位专业 | 材料学 |
英文摘要 | 采用磁控溅射沉积技术,在单晶硅(100)基底上分别制备了两种不同体系MoS2基多层薄膜:MoS2/DLC(类金刚石碳)多层薄膜和MoS2/MSN(Mo-S-N复合薄膜)多层薄膜,并考察了调制周期(即双层膜厚度,Λ)对MoS2/DLC多层膜结构及摩擦学性能的影响,以及调制比、调制周期和氮气流量分别对MoS2/MSN多层膜结构及摩擦学性能的影响。利用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、X射线衍射仪、透射电子显微镜、纳米压痕仪分别研究了MoS2基多层薄膜形貌、微观结构及力学性能,并利用球-盘摩擦试验机对薄膜在大气或真空环境下润滑性能进行考察。本论文着重考察了薄膜结构、力学及摩擦学性能三者之间的内在联系。 |
语种 | 中文 |
页码 | 102 |
内容类型 | 学位论文 |
源URL | [http://ir.lut.edu.cn/handle/2XXMBERH/102917] |
专题 | 兰州理工大学 |
作者单位 | 兰州理工大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 贺腾飞. MoS2基多层薄膜结构设计及其摩擦学性能研究[D]. 兰州理工大学. 2014. |
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