大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究

	大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究
	刘剑; 蔡黎明; 成贤锴; 顾国刚; 于涌
刊名	中国光学
	2019
卷号	12 期号:03 页码:663-669
关键词	高精度陶瓷导轨超精研抛
英文摘要	为了提高氧化铝陶瓷导轨超精密研抛加工的工作效率,分析了研抛压力、研抛速度以及磨料添加间隔等工艺参数与研磨抛光效率的关系。首先,根据氧化铝陶瓷导轨的特性及物理参数,确定研磨抛光盘以及磨料的选型。然后以高精度平面平晶作为检测工具,平晶与导轨表面形成干涉条纹,利用条纹的数量定量表征研抛效果。最终得到氧化铝陶瓷导轨的最佳工艺参数:每个研抛压力应该控制在40 N;研抛线速度为45 m/min;研磨剂的添加时间为30 min。在同等时间内,应用此套工艺参数可以达到更高的面型精度。
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/63648]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	刘剑,蔡黎明,成贤锴,等. 大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究[J]. 中国光学,2019,12(03):663-669.
APA	刘剑,蔡黎明,成贤锴,顾国刚,&于涌.(2019).大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究.中国光学,12(03),663-669.
MLA	刘剑,et al."大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究".中国光学 12.03(2019):663-669.