功能薄膜火焰法沉积中硼化合物助剂的影响

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	功能薄膜火焰法沉积中硼化合物助剂的影响
	陈运法; 陈运法; 陈运法
	2012
会议名称	第十七届全国高技术陶瓷学术年会
会议日期	2012-09-19
会议地点	中国江苏南京
关键词	功能薄膜:9167 火焰法:3592 硼化合物:1689 形貌:295 助剂:218 薄膜材料:183 前驱物:98 超疏水:90 纳米力学:77 疏水化处理:73 薄膜沉积:20 膜层性能:14 自清洁:13 沉积膜:12 低温玻璃化:12 可控参数:12 性能与结构:9 常压:9 结构相关性:8 SEM:7
页码	2
中文摘要	<正>近期,火焰法凭借其易于放大、常压开放空间进行、可控参数多等特性已经被研究者应用于多种功能薄膜材料的制备中。在减反射和自清洁薄膜等性能与结构相关的应用中,精细调控膜层形貌、结构更有利于提升膜层性能。硼化合物因硼-氧键特殊的化学性质以及三维结构常作为加速膜层沉积、降低熔体高温黏度、促进扩散和结晶的助剂。硼化合物在其中表现出的前驱物聚集中心和低温玻璃化性能有利于在火焰法沉积中有效调控膜层形貌、结构。
会议录	第十七届全国高技术陶瓷学术年会摘要集
语种	中文
内容类型	会议论文
源URL	[http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/2365]
专题	过程工程研究所_研究所（批量导入）
推荐引用方式 GB/T 7714	陈运法,陈运法,陈运法. 功能薄膜火焰法沉积中硼化合物助剂的影响[C]. 见:第十七届全国高技术陶瓷学术年会. 中国江苏南京. 2012-09-19.