频比对AZ91D镁合金微弧氧化膜的影响 | |
郑俊军 ; 曹发和 ; 冷文华 ; 常林荣 ; 张鉴清 | |
2011-08-21 | |
会议名称 | 第六届全国腐蚀大会 |
会议日期 | 2011-08-21 |
会议地点 | 银川 |
关键词 | AZ91D 微弧氧化 频比 耐蚀性 |
中文摘要 | 碱性硅酸盐溶液中,AZ91D 镁合金在不同的频比(1 ,5 ,25 )下进行微弧氧化成膜。频比 FR 是正脉冲频率与负脉冲频率的比值,频比的变化改变了反应过程中脉冲的分布及持续时间,进而影 响MAO 过程施加的能量,导致生成的氧化膜厚度,形貌和均匀度随频比发生显著变化。频比为1 时 生成的MAO 膜更均匀,孔隙率小且膜厚;随频比的增加,得到的氧化膜变得更加多孔,减薄且均匀 度增加;频比的增加导致两个正脉冲间的间隔减小,正周期熔融氧化物不能充分固化,导致形成更多 的放电通道,使得生成的MAO 膜微孔及裂纹增加;同时阴极脉冲的延长致使未充分固化的氧化物不 仅更多的被溶解,而且被阴极反应产生的气体带走量也增加,在氧化膜表面形成许多小坑,导致氧化 减薄且粗糙度增加。频比的变化对MAO 膜内部结构影响不大,膜层的保护性受频比的影响较小。 |
会议主办者 | 中国腐蚀与防护学会 |
会议录 | 第六届全国腐蚀大会论文集 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 会议论文 |
源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/71034] |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 郑俊军,曹发和,冷文华,等. 频比对AZ91D镁合金微弧氧化膜的影响[C]. 见:第六届全国腐蚀大会. 银川. 2011-08-21. |
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