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题名高指数取向铁电薄膜畴结构的像差校正透射电子显微学研究
作者邹敏杰
答辩日期2020-05-26
文献子类博士
授予单位中国科学院金属研究所
授予地点沈阳
导师朱银莲 ; 马秀良
内容类型学位论文
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/158545]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
作者单位中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
邹敏杰. 高指数取向铁电薄膜畴结构的像差校正透射电子显微学研究[D]. 沈阳. 中国科学院金属研究所. 2020.
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