题名 | 高指数取向铁电薄膜畴结构的像差校正透射电子显微学研究 |
作者 | 邹敏杰 |
答辩日期 | 2020-05-26 |
文献子类 | 博士 |
授予单位 | 中国科学院金属研究所 |
授予地点 | 沈阳 |
导师 | 朱银莲 ; 马秀良 |
内容类型 | 学位论文 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/158545] |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
作者单位 | 中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 邹敏杰. 高指数取向铁电薄膜畴结构的像差校正透射电子显微学研究[D]. 沈阳. 中国科学院金属研究所. 2020. |
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