GaN基新型结构激光器及其制作方法
孙慧卿; 汪鑫; 郭志友; 张秀; 侯玉菲; 龚星; 徐智鸿; 刘天意
2018-02-27
著作权人华南师范大学
专利号CN107742825A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名GaN基新型结构激光器及其制作方法
英文摘要本发明公开了一种GaN基新型结构激光器及其制作方法,所述GaN基新型结构激光器从下至上依次包括:衬底、下限制层、下波导层、有源区层、未掺杂的AlInGaN极化缓解层、电子阻挡层、上波导层、上限制层、欧姆接触层,以及位于衬底的下表面的n型欧姆电极。本发明所述GaN基新型结构激光器在有源区和电子阻挡层之间插入了一层未掺杂的AlInGaN,可以降低极化效应,缓解了有源区和电子阻挡层表面的部分压力,有助于增加载流子的有效势垒高度,从而有利于减少吸收损耗和阀值电流,使激光器的性能得到显著提升。
公开日期2018-02-27
申请日期2017-10-26
状态申请中
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92165]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位华南师范大学
推荐引用方式
GB/T 7714
孙慧卿,汪鑫,郭志友,等. GaN基新型结构激光器及其制作方法. CN107742825A. 2018-02-27.
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