반도체 레이저 소자 및 그 제조 방법 | |
히로야마료지; 노무라야스히꼬; 후루사와고우따로; 다께우찌구니오; 오까모또시게유끼 | |
2001-04-16 | |
著作权人 | 산요덴키가부시키가이샤 |
专利号 | KR1020010030489A |
国家 | 韩国 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | 반도체 레이저 소자 및 그 제조 방법 |
英文摘要 | 릿지부의 측면과 상기 릿지부의 하부가 이루는 경사 각도 θ가 70° 이상 117° 이하이고, p형 클래드층은 Alx1Ga1-x1As로 이루어지고, 제1 전류 블록층은 Alx2Ga1-x2As로 이루어지며, 발광층과 제1 전류 블록층과의 이격 거리를 t로 한 경우, t≤0.275/(1-(X2-X1))이 되고, 릿지부의 하부폭 W가 2㎛ 이상 5㎛ 이하인것을 특징으로 한다. 도1 색인어 반도체 레이저 소자, 릿지부, 클래드층, 발광층, 전류 블록층 |
公开日期 | 2001-04-16 |
申请日期 | 2000-09-26 |
状态 | 失效 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88853] |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 산요덴키가부시키가이샤 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 히로야마료지,노무라야스히꼬,후루사와고우따로,et al. 반도체 레이저 소자 및 그 제조 방법. KR1020010030489A. 2001-04-16. |
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