数字掩模投影光刻的极限分辨率研究

	数字掩模投影光刻的极限分辨率研究
	刘玉环 2; 赵圆圆 1; 董贤子 2; 郑美玲 2; 段宣明 2; 赵震声 2
刊名	量子电子学报
	2019
卷号	036 期号:003 页码:354
ISSN号	1007-5461
英文摘要	研究了一种基于数字微镜器件(DMD)的数字掩模投影光刻(DMPL)技术,以400 nm飞秒激光作为光源,结合高缩放比投影系统,来缩小光刻胶与光子束的反应区域,通过调控不同DMD像素投影光场强度分布,将投影光刻的线宽分辨率推进至亚微米尺度,实现了具有跨尺度加工能力(单次曝光面积在百微米以上,曝光精度在百纳米)的DMPL技术,同时详细对比分析了DMPL中存在的几何和物理光学模型,阐明了像素个数与加工结构尺寸的关系,并进一步基于物理光学模型分析了DMPL中极限分辨率的关键科学问题。
语种	英语
内容类型	期刊论文
源URL	[http://119.78.100.138/handle/2HOD01W0/9503]
专题	中国科学院重庆绿色智能技术研究院
作者单位	1.中国科学院重庆绿色智能技术研究院 2.中国科学院理化技术研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	刘玉环,赵圆圆,董贤子,等. 数字掩模投影光刻的极限分辨率研究[J]. 量子电子学报,2019,036(003):354.
APA	刘玉环,赵圆圆,董贤子,郑美玲,段宣明,&赵震声.(2019).数字掩模投影光刻的极限分辨率研究.量子电子学报,036(003),354.
MLA	刘玉环,et al."数字掩模投影光刻的极限分辨率研究".量子电子学报 036.003(2019):354.