窒化物半導体レーザ及びその製造方法
竹間 清文; 太田 啓之; 田中 利之
2000-11-24
著作权人PIONEER ELECTRONIC CORP
专利号JP2000323797A
国家日本
文献子类发明申请
其他题名窒化物半導体レーザ及びその製造方法
英文摘要【課題】 レーザ構造において高品質な反射鏡面を再現性良く得られる3族窒化物半導体レーザ製造方法を提供する。 【解決手段】 活性層を含む3族窒化物半導体(AlxGa1-x)1-yInyN(0≦x≦1,0≦y≦1)からなる結晶層の複数を、下地層(Alx'Ga1-x')1-y'Iny'N(0≦x'≦1,0≦y'≦1)上に、順に積層してなる窒化物半導体レーザの製造方法であって、基板上に成膜された下地層上に結晶層の複数を形成する結晶層形成工程と、基板及び下地層間の界面に向け、基板側から光ビームを照射して、窒化物半導体の分解物領域を形成する光照射工程と、積層された結晶層を担持した下地層を分解物領域に沿って基板から剥離する工程と、下地層を劈開又は裂開し、積層した結晶層の共振用劈開面を形成する工程と、を含む。
公开日期2000-11-24
申请日期1999-05-10
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/76124]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位PIONEER ELECTRONIC CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
竹間 清文,太田 啓之,田中 利之. 窒化物半導体レーザ及びその製造方法. JP2000323797A. 2000-11-24.
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