垂直腔面发射激光器及其制作方法
郭炳磊; 王群; 葛永晖; 吕蒙普; 胡加辉; 李鹏
2019-07-30
著作权人华灿光电(苏州)有限公司
专利号CN110071424A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名垂直腔面发射激光器及其制作方法
英文摘要本发明公开了一种垂直腔面发射激光器及其制作方法,属于半导体技术领域。所述垂直腔面发射激光器包括衬底、下反射层、发光区、上反射层、上金属电极和下金属电极,所述下反射层、所述发光区、所述上反射层和所述上金属电极依次层叠在所述衬底的第一表面上,所述下金属电极设置在所述衬底的第二表面上,所述衬底的第二表面与所述衬底的第一表面相对;所述下反射层采用GaAs/AlAs超晶格结构或者AlGaAs/AlGaAs超晶格结构,所述下反射层中插入有至少一层呈阵列分布的Ag岛状结构;当所述Ag岛状结构的层数为2层以上时,多层所述Ag岛状结构间隔插入在所述下反射层中。本发明可提高出光效率。
公开日期2019-07-30
申请日期2019-03-29
状态申请中
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/72536]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位华灿光电(苏州)有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
郭炳磊,王群,葛永晖,等. 垂直腔面发射激光器及其制作方法. CN110071424A. 2019-07-30.
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